Intel wil als eerste ASML-klant voor High-NA EUV leider worden in 3nm-productie

10 reacties

Intel heeft gisteren nieuwe namen aangekondigd voor zijn toekomstige productieprocessen. De naamgeving moet duidelijker zijn, en de kleinere nodes zullen worden gedefinieerd onder de Ångström-eenheid. Ook is gebleken dat Intel de eerste afnemer is van ASML's High-NA-machines voor extreme ultraviolet.

Daarmee wil ASML 3nm-nodes mogelijk maken. High-na is synoniem voor 0,55na-litho patterning, waarmee 3nm-nodes met behulp van euv gefabriceerd kunnen worden. Voor kleinere nodes wordt het gebruik van euv steeds belangrijker, met high-na kan het aantal met euv bewerkte lagen op de wafer worden vergroot. Dat beperkt het stroomverbruik van de lithografiemachine en de productiekosten. Intel verklaart het eerste bedrijf te zijn dat gebruikmaakt van high-na.

Het wil weer marktleider zijn, in plaats van volger. Afgelopen weekend schreven we dat er nu meer 10nm- dan 14nm-wafers bij de fabrikant van de band rollen — een grote stap vooruit in een tijd waarin de concurrentie al lang en breed op grote schaal vergelijkbare nodes maakt. In een presentatie van ASML is te zien dat er in juni van 2019 al drie klanten waren voor de machines, met in totaal twaalf systemen. Intel was daar dus de eerste van, maar om welke twee andere bedrijven het gaat is niet bekend.

Bron: Intel

« Vorig bericht Volgend bericht »
0
*